【特材知識】鹽酸對Hastelloy B-3的腐蝕影響
" @7 @" c2 u, g) H 鹽酸屬還原性強酸,大多金屬或合金在鹽酸介質中都會因活化腐蝕而溶解,工程耐鹽酸腐蝕材料僅限于Ti、Zr、Ta、Nb、W以及鎳基耐蝕合金。HastelloyB-3是目前耐還原性介質腐蝕最好的鎳基耐蝕合金,已廣泛應用于醋酸生產工藝及鹽酸儲存裝置。通過不同濃度與溫度鹽酸中的浸泡腐蝕試驗與電化學試驗,研究濃度與溫度對B-3合金腐蝕行為,了解B-3的材質性能。
# L$ y' H+ `. Y0 O- A 鹽酸濃度對B-3腐蝕速率的影響" U" C" v' Y, E( F! s c" j
圖4.1為80℃下,HastelloyB-3在5%、15%、20%、30%、37%不同濃度鹽酸中的腐蝕速率。
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; H* V9 @3 n) Y 圖4.1(a)為80℃,HastelloyB-3腐蝕速率隨鹽酸濃度的變化,隨著鹽酸濃度提高,腐蝕速率上升,濃度低于20%,上升緩慢;高于20%上升速度加快。由圖4.1(b)為80℃,HastelloyB-3每個周期腐蝕速率隨鹽酸濃度的變化。同一鹽酸濃度下,隨著試驗時間延長,腐蝕速率變化不大,表明腐蝕過程中,合金表面狀態比較穩定。37%鹽酸中HastelloyB-3腐蝕速率仍然低于0.55mm/a,表明在純鹽酸中具非常好的耐蝕性。
$ t+ j, Z# C8 x# `# S; t" K. e 圖4.2 是80℃中 Hastelloy B-3在5%、15%、20%、30%、37%不同鹽酸濃度中浸泡144h后的微觀腐蝕形貌。
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7 t9 `- Y- T7 S# @3 { 5%HCl中晶界處、孿晶界處處有輕微的腐蝕痕跡,碳化物沒有腐蝕;15%HCl中晶界和孿晶處有較輕的腐蝕痕跡,并且晶界處的碳化物明顯脫落;20%HCl中可以看到明顯的碳化物帶,晶界和孿晶界有明顯的腐蝕,并且碳化物脫落,形成明顯的點蝕源頭;30%HCl中晶內的碳化物明顯脫落,發生明顯點蝕現象;37%HCl中點蝕進一步擴展,點蝕的數量和尺寸明顯增加。: @% B# J5 r% H8 O
碳化物帶處容易形成元素的富集,造成能量的升高,腐蝕行為優先發生。同時由于碳化物為富鉬相,碳化物的脫落造成周圍鉬元素的貧瘠,鈍化膜進一步遭到破壞,從而使腐蝕進一步擴展。隨著鹽酸濃度的上升,晶界和碳化物帶的腐蝕痕跡明顯加深。隨著鹽酸濃度逐漸上升,腐蝕痕跡逐漸加深,點蝕程度逐漸加深。
" E( d" l4 T; {& @: S: ]! W% r 鹽酸濃度對B-3電化學行為的影" B' s& n4 P8 x# @+ h4 u& i1 l* e [
圖4.3為室溫下,Hastelloy B-3在5%、15%、20%、30%、37%HCl中的極化曲線。* X! b* F( o( Q) H9 ]
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由圖4.3可以看出,隨著鹽酸濃度逐漸升高,極化曲線整體下移,自腐蝕電位下降,過鈍化電位下降,但鈍化區長度與斜率變化不大,鈍化電流密度也未顯著增加,表明隨著鹽酸濃度升高,合金表面鈍化膜的狀態比較穩定。同時鈍化區域電流密度逐漸增加,即在相同的鈍化電位下,鈍化電流密度逐漸增加,鈍化膜穩定性逐漸下降。鈍化膜穩定性下降,材料在鹽酸中的腐蝕速率逐漸增加。 $ C$ V0 ~6 A4 W8 M: ]& T
圖4.4為HastelloyB-3在室溫下,不同濃度鹽酸中電化學實驗后的微觀腐蝕形貌。5 c r. R N5 O
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由圖4.4可以看出,位于晶界處的碳化物首先脫落形成點蝕的源頭,并且隨著電化學實驗的進行,點蝕坑深度逐漸增大。在低濃度的鹽酸中,材料有明顯的點蝕坑,晶界和孿晶界并不明顯;隨著鹽酸濃度升高,材料中有明顯的點蝕坑,晶界和孿晶界也有明顯被腐蝕的痕跡。
" Q! ~/ `; E7 }" J7 T U 在鹽酸環境中,材料碳化物和晶界容易形成元素的富集,造成能量的升高,在腐蝕過程中容易形成“大陰極小陽極”的現象,腐蝕容易在晶界處發生。碳化物為富鉬相,碳化物的溶解造成周圍區域鉬元素的貧瘠,鈍化膜穩定性進一步遭到破壞,從而使腐蝕進一步發展。
4 {6 g% U! l% O! ~- l; B 溫度對B-3腐蝕速率的影響
0 a8 |7 [! v) } 圖4.5為15%HCl中,Hastelloy B-3在室溫、40℃、60℃、80、98℃條件下的腐蝕速率。
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; }. S6 R. R/ S' Q( c* D 圖4.5(a)為腐蝕速率隨溫度變化曲線,當溫度低于60℃時,腐蝕速率增加緩慢,當溫度大于60℃時,腐蝕速率急劇增加。98℃下,15%HCl中,HastelloyB-3的腐蝕速率為0.31mm/a,具有一定的耐蝕性能。圖4.5(b)為每個周期腐蝕速率的變化曲線,隨著時間的延長,室溫、40℃、60℃、80℃條件下,腐蝕速率基本不變;98℃條件下,腐蝕速率有小幅下降。
- `; o, Z6 I& l/ r) z) C6 z1 t 圖4.6為15%HCl中,Hastelloy B-3 在室溫、60℃、80℃、98℃不同溫度浸泡144h 后的微觀腐蝕形貌。" z. H G2 m# A/ l; `
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在室溫條件下,晶界和孿晶界有輕微腐蝕痕跡,碳化物未被腐蝕;在60℃下,晶界和孿晶界有較輕的腐蝕痕跡,碳化物脫落,形成點蝕的源頭;在80℃下,晶界和孿晶界有明顯腐蝕痕跡,碳化物脫落,出現點蝕現象;在98℃下,晶界和孿晶界腐蝕痕跡進一步加深,碳化物大量脫落,出現嚴重點蝕。
6 b5 R- k- U4 B# S4 B 溫度對B-3電化學行為的影響
, y) O+ v' @% N' w! e 圖4.7在15%HCl中,Hastelloy B-3在不同溫度中的極化曲線。
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. h( M( Y9 M) o: _) j" N 隨著溫度上升,合金的自腐蝕電位逐漸升高,過鈍化電位下降,鈍化區區域變短,試樣很容易進入過鈍化區,形成過鈍化腐蝕;鈍化區曲線斜率減小,電位變化對電流影響增大,鈍化膜穩定性減弱。
% {" B2 q; r. m" _/ i, R4 M 圖4.8為不同溫度條件下,HastelloyB-3在15%HCl中的微觀腐蝕形貌。
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4 \* T' w/ B) e8 f 圖4.8可以看出,經過電化學實驗,材料中的析出物脫落,形成了點蝕的源頭。在室溫條件下,晶界、孿晶界和碳化物明顯腐蝕。隨著溫度上升,晶界和孿晶界腐蝕痕跡明顯加深,點蝕坑數量和尺寸明顯增加。
t: `7 h( C+ B. ?8 z3 A) E' ? HastelloyB-3試驗的總結4 r* K; Y9 D8 M8 k
實驗結果可以看出,鹽酸濃度和溶液溫度對HastelloyB-3腐蝕速率和極化曲線的影響有相似的地方,其中包括:
- ^, h8 u0 C$ S& k! d. e: P5 V4 e8 ] ①鹽酸濃度升高或者溫度上升,材料的腐蝕速率增加;
( J K3 `) S& H ②鹽酸濃度升高或者溫度上升,鈍化區域變窄,鈍化區曲線斜率變小;9 U7 A1 O" X; u, N8 @0 b3 ^9 Q+ f9 S
③鹽酸濃度升高或者溫度上升,過鈍化電位下降;
`4 {2 Q+ O# ~4 ~/ F 但兩者對極化曲線的影響是相反的,主要區別如下: 5 l5 ]3 q5 r8 x# x' h
①鹽酸濃度升高,自腐蝕電位下降; 8 u' r2 E- H5 n+ J- _1 G. f$ }- X
②溶液溫度升高,自腐蝕電位也增加。
& ?& |" a# U3 N# {" a! N 因此,兩者對HastelloyB-3在鹽酸中的腐蝕影響程度是不同,與鹽酸濃度相比,溫度是相對更重要的影響因素。因為溫度升高使自腐蝕電位升高的同時,也使過鈍化電位下降,兩者之間的鈍化區域必然變窄。而鹽酸濃度使自腐蝕電位下降的同時也使過鈍化電位下降,鈍化區域沒有明顯變化。即對于Hastelloy B-3,溫度對極化曲線的影響程度大于鹽酸濃度。& [3 X$ y, K8 Z. E' |
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