|
13#
樓主 |
發(fā)表于 2007-4-23 23:35:00
|
只看該作者
Re: CVD鑽石薄膜材料,中國人搞的
五、其他可供應用方向7 N* S! Z& g2 x$ j- O
1、Diamond bonding tools for semiconductors(TAB Tool)
, E8 K+ h; J9 s. r+ V/ r' l2、submonuts for LASER High Power LED
# r0 V3 Q% x" X3、CVD Diamond Disk
9 ^) k* }6 n! u& F# t以全球鑽石膜生成及拋光技術來論,日本住友電工長期以來一直在CVD領域從事不同性狀與品質需求的CVD Diamond產品,供應工業(yè)加工用途、或為次世代電子元件的產品。
: M; @/ e# g" o/ \1995年住友電工發(fā)表大面積3英吋CVD Diamond Wafer製作及研磨試作成功;1998年發(fā)表利用大面積CVD Diamond Wafer製作2.5G Hz Diamond SAW元件,用於高頻產品;2001年發(fā)表5G Hz Diamond SAW發(fā)振元件;2004年將CVD Diamond Wafer及 Diamond SAW關鍵製作技術授權並導入精工EPSON。 ]7 M3 n- ?3 a7 m, J& T
EPSON在Diamond SAW元件早已開發(fā)完備商品化,並繼續(xù)開發(fā)更高頻率元件、半導體場發(fā)射元件、高純度奈米多晶Diamond、高性能Diamond Heatsink元件、LASER Diamond Heatsink、高功率FET等元件,且多數(shù)已開發(fā)完成,但這幾年來以上這些高階元件遲遲未見市場化,其關鍵在於CVD Diamond Wafer未能有效量產化,材料取得不易,製造成本太高,無法降低成本之原因。
# c2 @/ h- ?- R8 N* p$ t9 R$ K我公司完成以4吋 1mm矽晶圓基材、達成面粗度8nm鑽石薄膜晶片,單機日產8片,良率達95%之成果,完全可達商業(yè)量產化之要求 |
本帖子中包含更多資源
您需要 登錄 才可以下載或查看,沒有賬號?注冊會員
×
|