QPQ處理試樣孔洞層抗蝕性的研究

renliangbing

QPQ處理試樣孔洞層抗蝕性的研究

林圍

QPQ處理后產生空洞層其實是化合物層疏松或是分層，一般產生的原因有四點，
1 ?6 L& L: U. I  M1 k9 {+ l1.氮化鹽浴中懸浮的顆粒狀渣太多。
8 Y4 x- ^( A1 ]+ }  y: R# ^2.氮化鹽熔化時加鹽方法不對或爐溫不均，鹽浴局部過熱。
8 g5 A! J1 I( Q8 R( s; o/ D3.氮化時間太長。
4.氮化溫度太高
一般的解決方法有以下四點
1.先用撈渣勺撈渣，再用爐渣器濾渣2-3遍。
2.嚴格按操作規程化鹽，必要時可調整電爐功率或爐絲分布。
3.適當縮短氮化時間。
4.降低氮化溫度過高。

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QPQ工藝好象是有三個階段，熱處理后，精磨再熱處理，再鹽浴氧化