|
哈工大為國內頂尖學府，此前在14納米光刻機上就研發成功了重要的光刻機技術，為國產14納米光刻機的量產提供了有力支持，近日哈工大再傳來炸裂性的消息，研發成功EUV光刻機光源，這將是美國和ASML以LCC EUV聯盟壟斷EUV光刻機之外的首次。
![]()
據稱哈工大研發的“電能轉化等離子體線路”技術，可以實現DPP-EUV光源，為國產的EUV光刻機打開了一扇門，這也是EUV光刻機的重要核心技術之一。
國產芯片制造工藝一直無法突破7納米，就在于美國阻止ASML對中國出售EUV光刻機，早在2018年中芯國際就向ASML支付了1.2億美元訂購EUV光刻機，然而至今ASML都未向中芯國際交付EUV光刻機。
去年下半年以來，美國又進一步加強了光刻機出口限制，要求ASML不要對中國出售14納米及以下的EUV光刻機，早前ASML表示它可以對中國出售1980Di光刻機，然而這只是一款38納米光刻機，遠遠無法滿足中國的需求。
為此中國開始極力推動國產光刻機產業鏈的發展，而哈工大就多次研發成功重要的光刻機技術，為國產光刻機的發展提供了有力支持，這次再研發成功EUV光刻機光源，為國產EUV光刻機的量產推進了一大步。
![]()
ASML是一家荷蘭企業，為何美國能對ASML擁有如此巨大的影響力，原因就在于多年來美國為ASML提供了諸多的技術支持，將ASML從一家茍延殘喘的光刻機廠商變成如今的光刻機巨頭，占有光刻機市場近六成的市場份額。
2005年之前，全球的光刻機市場主要為日本的佳能、尼康占據，它們占有八成的市場份額，而ASML當時甚至只能托庇在飛利浦旗下，而飛利浦只是給ASML一家毫不起眼的辦公室，畢竟當時的ASML實在看不到希望。
2005年臺積電的林本堅研發出浸潤式光刻機技術，而日本的佳能、尼康生產干式光刻機，它們看不上林本堅的浸入式光刻機技術，那時候茍延殘喘的ASML找上了臺積電，孤注一擲研發浸潤式光刻機技術，由此迅速在光刻機市場打開局面。
此后美國希望打壓日本的光刻機產業，強制日本的光刻機企業貢獻先進光刻機技術，后來美國更聯合ASML成立LCC EUV聯盟，卻排斥了佳能和尼康，由此ASML更成為全球唯一可以生產EUV光刻機的廠商，由此建立了ASML壟斷光刻機市場的地位，如此也就不奇怪為何ASML屢屢聽從美國的要求了。
![]()
如今中國在美國的壓力下，不斷加強國產光刻機產業鏈的發展，乃至哈工大先后拿出浸潤式光刻機技術、EUV光刻機技術，中國的光刻機廠商可望成為ASML之后另一家量產先進光刻機的廠商，打破ASML壟斷光刻機市場多年的局面，由此ASML近期慌亂之下表態指中國自研光刻機將打亂全球芯片產業鏈，印證了中國在光刻機技術上的重大突破。 | 
發表于 2023-4-27 13:42:45
QQ好友和群
QQ空間
