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當地時間3月8日，荷蘭出手了，宣布計劃對半導體技術出口實施新的管制。
這一消息源于荷蘭外貿與發展合作大臣Liesje Schreinemacher致荷蘭議員的一封信，其中寫道：
“鑒于技術發展和地緣政治背景，政府得出結論，為了國家安全，有必要擴大對特定半導體制造設備的現有出口限制。”
信中還提到，荷蘭方面將建立國家出口管制清單，管制措施也將在今年夏天之前開始實施。
可以注意到，致信中并沒有直接點名ASML、光刻機和中國，但聯想到1月份美日荷三方于白宮會面商討出口限制一事，以及達成的那份沒有公布細節的協議，本次荷蘭出手的緣故顯而易見。
而就在之后接受媒體采訪時，Schreinemacher也表示，新禁令下還是有許多更低端的設備可以銷往中國，無需取得許可，包括制造汽車、冰箱、電話和風力發電機所需芯片的設備。
荷蘭宣告出手限制出口的第二天，光刻機龍頭ASML也做出了自己的回應。
“最先進”DUV設備受限事實上，自2019年以來，ASML的EUV設備就被禁止出口中國大陸。這一次的焦點，在于DUV設備，其主要用于生產28nm及更成熟制程的芯片，通過多次曝光，也是可以實現7nm制程的。
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在聲明中，ASML先是表明荷蘭政府的措施不會對公司2023年的財務產生重大影響。隨后稱，最新出口管制并不適用于所有的浸沒式光刻工具，而是僅適用于“最先進”工具。
至于“最先進”的具體定義，荷蘭政府方面尚沒有給出確切的消息。不過ASML給出了自己的解釋——關鍵的浸沒式系統，即TWINSCAN NXT:2000i和后續推出的浸沒式系統。
ASML官網顯示，其浸沒式DUV設備目前主要有3款產品，分別是TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:1980Di。其中依照ASML對“最先進”的理解，NXT:2050i和NXT:2000i將受到此次出口限制影響，NXT:1980Di則不受影響。
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據悉，NXT:1980Di 的分辨率可以達到≤38nm，每小時可以生產275片晶圓，當前主要被用于45nm以下成熟制程的生產。
依據ASML在聲明中所言，主要關注成熟制程的客戶，使用不太先進的浸沒式光刻工具也能夠得到很好的服務。
技術限制步步緊逼
當前的光刻機市場，ASML與尼康、佳能一起拿下超過90%的市場份額。其中，ASML主要著眼于高端市場，也是全球唯一的EUV光刻機供應商，尼康和佳能則聚焦中低端市場。
自然而然的，這個被稱作“半導體工業皇冠上明珠”的領域，也被美國視作技術封鎖，尤其是芯片相關技術封鎖的重要一環。
事實上，自2018年來，美國就已經開始向荷蘭政府施壓，要求其撤銷ASML向中國出口EUV光刻機的許可。它也做到了，自2019年開始ASML EUV設備的銷售就受到了限制。
而現在，輪到了DUV設備。
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今年1月份，外媒報道稱荷蘭首相Mark Rutte會見美國總統拜登時，雙方就ASML向中國銷售DUV設備可能實施的出口限制問題進行了討論，并于27日達成了一項協議。
直到現在，三方都沒有就這份協議進行公開或討論，但荷蘭此次宣布的出口限制，也讓外界對這份協議有了一番猜測。
值得注意的是，彼時在白宮與美國政府商討事宜的還有日本，后者在半導體材料和設備全球市場中同樣保持領先。有數據統計稱，日本企業在全球半導體設備市場的份額為35%，在全球半導體原材料市場的份額為52%。
就在荷蘭宣布計劃對半導體技術出口實施新管制之后不久，也有消息稱日本最快將于本周發布最新芯片設備出口政策。對比荷蘭此次的做法，預計日本也將在很大程度上遵循美國的腳步。針對中國的半導體技術限制正一步步增強。
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發表于 2023-3-14 09:54:49
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