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摘錄：
$ m0 T% Q t, J; wPVD簡介ffice ffice" /> ( V8 y& i7 j+ Q" q7 k1 R
1. PVD的含義 — % j$ A$ i) q" w0 _3 N0 W
PVD是英文Physical Vapor Deposition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術。 2 r/ u, [6 O: C4 o B& ^
2. PVD鍍膜和PVD鍍膜機 — , [7 Q( p }" I, t. O8 b/ M
PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類，真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應于PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。 ! q4 @( ~+ x& k6 E
近十多年來，真空離子鍍膜技術的發展是最快的，它已經成為當今最先進的表面處理方式之一。我們通常所說的PVD鍍膜 ，指的就是真空離子鍍膜；通常所說的PVD鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。 + `; M4 l" _' J u6 O, T* J: g2 I
3. PVD鍍膜技術的原理 —
$ z) N8 C" [" L( Q1 o( ePVD鍍膜（離子鍍膜）技術，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質與氣體都發生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發物質及其反應產物沉積在工件上。 ( ?; W2 q4 d! S3 V6 |: i2 _* ^
4. PVD鍍膜膜層的特點 —
: z8 T; A4 w [! {3 W0 p0 v& c& `# W7 U采用PVD鍍膜技術鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數）、很好的耐腐蝕性和化學穩定性等特點，膜層的壽命更長；同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。
" G- S( v' \% m: D5. PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類 — $ | u& U; d& P7 S0 B, ^: H- m
PVD鍍膜技術是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。
: X, ]3 O9 B) X' F6. PVD鍍膜膜層的厚度 — % w4 @0 k2 v P) Q
PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm ～ 5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm ～ 1μm ，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學性能，鍍后不須再加工。
8 H, Z; ^5 {! P" S7. PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色種類 — ' A) y h1 t1 i2 S9 V! Q4 `
PVD鍍膜目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通過控制鍍膜過程中的相關參數，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結束后可以用相關的儀器對顏色進行測量，使顏色得以量化，以確定鍍出的顏色是否滿足要求。 % `5 {2 N, `% M/ {% z
8. PVD鍍膜與傳統化學電鍍（水電鍍）的異同 —
) T7 u! W$ e% N% P% d' jPVD鍍膜與傳統的化學電鍍的相同點是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩定；PVD鍍膜不會產生有毒或有污染的物質。 ) U; s1 m" b/ d/ |3 l/ U6 q
9. PVD鍍膜技術目前主要應用的行業 — . p8 a* R3 i' n9 P$ E+ r& }- X
PVD鍍膜技術的應用主要分為兩大類：裝飾鍍膜和工具鍍膜。裝飾鍍的目的主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤同時使工件更耐磨耐腐蝕延長其使用壽命；這方面主要應用五金行業的各個領域，如門窗五金、鎖具、衛浴五金等行業。工具鍍的目的主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦系數，提高工件的使用壽命；這方面主要應用在各種刀剪、車削刀具（如車刀、刨刀、銑刀、鉆頭等等）、各種五金工具（如螺絲刀、鉗子等）、各種模具等產品中。
7 h8 A1 E/ t* H0 |, j) G10. PVD鍍膜（離子鍍膜）技術的主要特點和優勢 —
! a2 w H, ~, k; L. Y. \和真空蒸發鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優點：
1 ．膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨
2 ．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件
3 ．膜層沉積速率快，生產效率高
4 ．可鍍膜層種類廣泛
5 ．膜層性能穩定、安全性高（獲得FDA認證，可植入人體） " i& S p0 Q' v g1 B
+ s/ N7 h- F: h8 V$ k真空蒸發鍍膜 真空濺射鍍膜真空離子鍍膜 三種鍍膜方式的比較
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# l1 u' R9 c1 v4 \ 比較項目 |
: I* _) g+ \: Z7 ]9 N
7 D$ Y3 I3 G6 b8 s- n' x0 C2 i6 n 真空蒸發鍍膜 | * m2 R0 Q' U+ p% f' P, s
- Y/ R8 H9 S# a; X7 G, v
真空濺射鍍膜 |
" a! Y3 I! O6 J+ ^
# T w, O% [: Y- B4 S: r 真空離子鍍膜 |
$ u6 H7 n3 ]- ?' T) y9 v9 K) B0 ~" _2 i$ t
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% o' P* ]9 E( Y! R+ c0 ]% ? 壓強（×133Pa） | 5 D4 `- r3 q, f; `' O# c7 E( H! ]
0 I, [$ @* u* U 10E-5~10E-6 |
# F3 x( N* s; \6 c$ V L( j/ Z/ `" q8 {: Q& _! N+ I
0.15~0.02 |
0 w# `2 T& D2 Z# x1 i
j1 j1 d: O A M0 J/ Y8 r 0.02~0.005 |
7 d! ?- Z! w9 S- i0 Q" E" y2 [& L/ B( D- ~) D
| $ P2 X) y$ v: M$ n+ j: I
粒子能量 |
( x' d) k2 q7 S* d3 x$ w& t2 O" i" t: q5 m2 ]# ~+ M" _
中性 |
6 m: ~) W7 m! G& f* e
5 T9 F* u, d( ]/ a! q$ E 0.1~1eV |
! _2 i2 m4 P0 A7 B+ g0 |5 L9 z8 J; a1 m0 E" M3 N( t9 v0 n
1~10eV | 4 O1 c- q- {0 V- y
; X8 X: V. @3 V( g
0.1~1eV | ; v- s8 u: R; w
3 f! {0 y: M: c; b7 M: J' y| 1 c8 t3 u; d9 \* O
離子 | # K* Z- l/ V; z
* Q8 ]5 C6 A2 L# a+ {' y6 u: U" M － | / A: Y& \, ^5 g. }
" k: W3 r. ] } － | 2 ]; {2 _% @- U, P: E
@& U& R2 s( j5 Z4 S) O) M. ? 數百到數千 |
, R U1 w+ C6 I( x. A1 I; D, M' V6 j9 a; n! T: H
| 7 S1 a* ]! b/ k: k
沉淀速率（微米 / 分） |
4 Y4 ]( u6 Q6 C; Z; B3 a
( k1 d; a. N3 c1 Z- I0 F5 Q 0.1~70 | $ o" Y( n7 [) d$ i4 O8 N
0 Z/ i0 W7 z9 e( [" A3 N
0.01~0.5 | ) D- J4 L2 i$ n0 ?% ^
7 _% A% v9 U* ~9 N
0.1~50 | 6 B# e; x6 K4 r1 D
( m3 r3 _2 i% h) E
| ' }2 P( S" j7 b1 Y7 N/ f
繞射性 |
/ x5 c& h1 t- p* X
4 {0 _- a9 e. E% v \" G 差 |
% z. E% l( O7 a8 k2 x1 M: z$ o
$ Z& |' ^2 W2 n 較好 |
; k7 I# X/ G) v' \) T; w, |
" ]3 k1 v% f' D# ?) [ 好 | _' U5 Q3 j9 U+ l \/ f
; V: B. i. _/ n1 q5 o$ L| , C4 `( p3 |% d0 [. i9 [0 U
附著能力 | ( K$ V. X6 p) i2 x. I
5 C$ Q) m) u+ o! T) }; s& {: w 不太好 | 5 Y; _* i7 J6 N
% }8 }0 j; F( G4 E$ T0 o" F/ N
較好 | 3 V! j8 E/ A8 K
/ Y C1 g+ I& ?" e2 b$ I) c 很好 |
: M1 G$ |! H" l3 y: h% v X- g( p" c/ n9 `
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/ J2 G9 i$ x* ~ 薄膜致密性 | X4 T. g* U% A- V7 }
/ s" A7 x. @- ^1 l7 n 密度低 |
- ~8 f6 l2 }4 c; b) K u' U3 X# e" D8 F! A( z
密度高 | ; H) ?, I" T7 `& x; N6 F
9 }9 F% ]3 {5 ? 密度高 | : y1 t) L% z/ Q" \( U" f5 o
3 a* E' i4 [8 ?8 V2 d|
3 Y5 }4 p: K( b 薄膜中的氣孔 |
1 s! L( ^( Q7 Y' c1 ^* C. @; _* Q0 q( K. L" K6 z
低溫時較多 | " K9 C* C' P! y6 m" D( e
5 [" e$ o3 Q. v! }6 h+ O 少 |
" f/ G Z: E0 c) {$ y5 t: [1 n$ O! I% k J: y8 ]- U8 X
少 | $ |0 u2 e$ l, T0 v, W
$ w3 W5 a, {% B5 o: @/ b| 3 W8 ]4 y. D. _5 B( D6 Q
內應力 |
, j) \7 K7 a0 @/ z5 a9 O2 S t$ |, |, i, c! A5 h
拉應力 | ( H- H& D% y$ j( X1 [
) t$ \( m! @: p" c9 C6 a5 B& I5 Y
壓應力 |
0 v/ r/ h9 l( m& c
- @* X1 g1 y* Y9 s* s2 M5 m! I 壓應力 | 7 C% _$ Y2 W) o4 t( T- }5 U6 X
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發表于 2007-7-29 21:13:14
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發表于 2007-7-31 13:41:51
