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等離子噴涂------必須要在真空中進行嗎?

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1#
發表于 2011-6-6 07:29:17 | 只看該作者 |倒序瀏覽 |閱讀模式
為何一提到等離子噴涂就是真空呢?
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2#
發表于 2011-6-6 07:54:34 | 只看該作者
哪位高手介紹一下等離子噴涂的原理、特點、用途等,學習學習。謝謝。
3#
發表于 2011-6-6 09:44:21 | 只看該作者
等離子噴涂本身不是在要求真空中進行的。只是等離子噴涂現場的噪聲非常大,遠遠高于78~85db,長時間在那個環境中人帶耳塞都受不了。可能是為了降噪,要求真空進行吧。
4#
發表于 2011-6-6 10:27:15 | 只看該作者
你最好先了解了解什么是叫“等離子”,然后就自然知道為什么要在真空里面進行了!
/ s, ^7 o5 B& X. ~: U2 p0 S" o
5#
 樓主| 發表于 2011-6-6 21:55:10 | 只看該作者
真能搞笑,我手中就有等離子,沒事就打開玩。
6#
發表于 2011-6-7 10:45:29 | 只看該作者
你學過高中物理不,里面有說到PVD(物理氣相沉積),CVD(化學氣相沉積),等離子噴涂基本就是物理氣相沉積,如果你忘記了那你百度一下看看原理吧,PVD是利用等離子電漿轟擊靶材,然后要涂覆的金屬原子就沉積在產品上,半導體廠都有這個工藝,一般是沉積AL,TIN,TI
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