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如何局部淬火

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1#
發表于 2009-11-26 16:24:43 | 只看該作者 |倒序瀏覽 |閱讀模式
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2#
發表于 2009-11-26 16:49:50 | 只看該作者
中高頻和激光淬火。
3#
 樓主| 發表于 2009-11-26 17:02:18 | 只看該作者
2# zht_udb 8 V# [0 i1 a. p: p
樓上的朋友 能不能解釋詳細一些 或者有圖片解說以下 我不太懂這個
4#
發表于 2009-11-29 07:44:35 | 只看該作者
不懂沒關系,找相應的廠家就可以。中高頻淬火變形較大,價格低;激光淬火變形較小,價格高。
5#
發表于 2009-11-29 09:12:18 | 只看該作者
不知道硬化層深度要求多少,熱處理后是否對功能區域有再加工的要求,建議調質預處理,全部成型后,高頻淬火前留0.2余量,淬火后再精加工。功能區粗糙度要求不高,具體看客戶要求。
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