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標題: 填充陣列做高爾夫球,陣列不均勻 [打印本頁]

作者: 漠漠mo    時間: 2017-9-30 09:12
標題: 填充陣列做高爾夫球,陣列不均勻
       在球體上挖了一個小凹槽,做填充陣列后發現越往中間凹槽越深,求解這是什么原因造成的?需要修改哪些參數才能使得填充陣列在球體上的凹槽深度均勻?
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作者: xueqingchao    時間: 2017-9-30 10:27
沒有定義好,在截面里定義截面線法向與球面。
作者: 漠漠mo    時間: 2017-9-30 10:30
xueqingchao 發表于 2017-9-30 10:27
* m7 W$ i+ l6 R1 j1 k( f4 {7 }- V沒有定義好,在截面里定義截面線法向與球面。
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除去與陣列凹槽相對的面,畫好的圓在更換草繪界面時,在余下的兩個平面顯示的都是不在球體的中心圓點,這要怎么處理?% [+ U( e* v- e: ~2 B1 ?% c- F

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作者: 漠漠mo    時間: 2017-9-30 11:14
漠漠mo 發表于 2017-9-30 10:30! r" T- o/ x/ [
除去與陣列凹槽相對的面,畫好的圓在更換草繪界面時,在余下的兩個平面顯示的都是不在球體的中心圓點,這 ...

' Y* T1 r3 q7 Y2 z1 ?) c不好意思啊,可能是我太笨了,試不出來  U: w5 i, ~5 m: D" O





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