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標題: 等離子噴涂------必須要在真空中進行嗎？ [打印本頁]

作者: laodongbeiren 時間: 2011-6-6 07:29
標題: 等離子噴涂------必須要在真空中進行嗎？
為何一提到等離子噴涂就是真空呢？

作者: 互通有無 時間: 2011-6-6 07:54
哪位高手介紹一下等離子噴涂的原理、特點、用途等，學習學習。謝謝。

作者: tyx2000 時間: 2011-6-6 09:44
等離子噴涂本身不是在要求真空中進行的。只是等離子噴涂現場的噪聲非常大，遠遠高于78~85db，長時間在那個環境中人帶耳塞都受不了。可能是為了降噪，要求真空進行吧。

作者: 生而為贏 時間: 2011-6-6 10:27
你最好先了解了解什么是叫“等離子”，然后就自然知道為什么要在真空里面進行了！

作者: laodongbeiren 時間: 2011-6-6 21:55
真能搞笑，我手中就有等離子，沒事就打開玩。

作者: luckstone2008 時間: 2011-6-7 10:45
你學過高中物理不，里面有說到PVD（物理氣相沉積）,CVD（化學氣相沉積），等離子噴涂基本就是物理氣相沉積，如果你忘記了那你百度一下看看原理吧，PVD是利用等離子電漿轟擊靶材，然后要涂覆的金屬原子就沉積在產品上，半導體廠都有這個工藝，一般是沉積AL，TIN，TI

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