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標(biāo)題: 俄羅斯要投資5000多萬研發(fā)全新的光刻機 [打印本頁]
作者: aiyusheng 時間: 2022-4-2 09:26
標(biāo)題: 俄羅斯要投資5000多萬研發(fā)全新的光刻機
【投資5000多萬 俄羅斯計劃研發(fā)全新EUV光刻機：ASML都沒有】
光刻機是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備之一，EUV光刻機全球也只有ASML公司能夠研發(fā)、生產(chǎn)，但它的技術(shù)限制也很多，俄羅斯計劃開發(fā)全新的EUV光刻機，使用的是X射線技術(shù)，不需要光掩模就能生產(chǎn)芯片。
光刻機的架構(gòu)及技術(shù)很復(fù)雜，不過決定光刻機分辨率的主要因素就是三點，分別是常數(shù)K、光源波長及物鏡的數(shù)值孔徑，波長越短，分辨率就越高，現(xiàn)在的EUV光刻機使用的是極紫外光EUV，波長13.5nm，可以用于制造7nm及以下的先進工藝工藝。
俄羅斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)現(xiàn)在就接下了貿(mào)工部的6.7億盧布資金（約合5100萬元人民幣），也要開發(fā)制造芯片的光刻機，而且號稱要達到EUV級別，但技術(shù)原理完全不同，他們研發(fā)的是基于同步加速器和/或等離子體源”的無掩模X射線光刻機。
X射線光刻機使用的是X射線，波長介于0.01nm到10nm之間，比EUV極紫外光還要短，因此光刻分辨率要高很多。
此外，X射線光刻機相比現(xiàn)在的EUV光刻機還有一個優(yōu)勢，那就是不需要光掩模版，可以直寫光刻，這也節(jié)省了一大筆費用。
正因為有這么兩個特點，俄羅斯要研發(fā)的X射線光刻機優(yōu)勢很大，甚至被當(dāng)?shù)氐拿襟w宣傳為全球都沒有的光刻機，ASML也做不到。
從相關(guān)資料來看，全球確實沒有能達到規(guī)模量產(chǎn)的X射線光刻機，不過這種技術(shù)并不是現(xiàn)在才有，不僅美國、歐洲研究過，國內(nèi)也有科研機構(gòu)做了X射線光刻機，只是生產(chǎn)芯片的效率跟ASML的光刻機不能比的，只適合特定場景。
不過俄羅斯在X射線及等離子之類的技術(shù)上有深厚的基礎(chǔ)，倒是可以期待下他們在新型光刻機上能走多遠。
作者: sgxap666 時間: 2022-4-2 09:38
老毛子也那么會宣傳了
作者: 南天橫翼 時間: 2022-4-2 10:09
五千萬人民幣？
作者: 大白小白 時間: 2022-4-2 11:18
大毛V5！不管咋樣，氣勢要足，哪怕是聽一聲水響，也是值得的！
作者: 13989291710 時間: 2022-4-2 11:22
大毛V5。。。
作者: 老鷹 時間: 2022-4-2 11:49
這點錢有些中國家庭都能拿出來，如果投入這么少就能搞出光刻機，那真是牛了。
作者: 遠祥 時間: 2022-4-5 12:20
這個研究可以的！
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