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標題: 真空鍍鉻和普通鍍鉻優(yōu)缺點及應用場合區(qū)別？ [打印本頁]

作者: zuonian 時間: 2020-10-20 10:27
標題: 真空鍍鉻和普通鍍鉻優(yōu)缺點及應用場合區(qū)別？
真空鍍鉻和普通鍍鉻優(yōu)缺點及應用場合區(qū)別？

作者: 遠祥 時間: 2020-10-20 20:21
兩者的主要區(qū)別是真空電鍍是在一個密閉的超低壓容器中進行，水鍍是在水溶液的電鍍槽中進行，前者為物理過程、后者為電化學過程。

作者: zuonian 時間: 2020-10-20 21:10

|遠祥發(fā)表于 10-20 20:21兩者的主要區(qū)別是真空電鍍是在一個密閉的超低壓容器中進行，水鍍是在水溶液的電鍍槽中進行，前者為物理過程、后者為電化學過程。

什么場合需要真空鍍鉻，什么場合化學鍍鉻？

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